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半导体制造中必要的微量气体微量氧检测与控制
日期：2026-10-08 09:03
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摘要：制造半导体所用的特殊气体必须是离纯度的，因为这一过程非常**。即使存在万亿分之一的微量杂质，也会导致整批晶圆的损失。在这些应用中，关键参数的可靠、可重复测量（检测下限小于100PPT）至关重要。我们为您提供所有关键微量杂质的可靠测量，许多参数的检测水平低至十亿分之一。您可以从单一供应商提供的完整解决方案中获得方便和安心。为了更加方便，还可以使用单个分析仪系统进行多种微量杂质测量。
监测和控制特殊气体中微量杂质的完整解决方案
我们的氧气和水分分析仪和传感器，连同过程气相色谱仪，提供了一个完整的解决方案来监测和控制惰性气体、特殊气体和有毒气体的纯度，如：氮气（N2）、氦气（He）、氩气（Ar）、氧气（O2）、氢气（H2）、六氟化钨（WF6）、八氟环丁烷（C4F8），硅烷（SiH4）、锗烷（GEH4）、一氧化二氮（N2O）和三氟化氮（NF3）。
产品选择
高纯气体中的微量氧
| 应用/服务 | 测量范围 | 测量气体/背景气 | 推荐产品 |
|---|---|---|---|
| 高纯气体中氧污染的监测 | 0-100ppb | N2, H2, Ar | PI2-UHP100 & PI2-MS1000 |
| 监测大气钎焊和退火铜膜用高纯氢**剂气体的氧污染 | 0-100ppb O2 | N2, H2, Ar | PI2-UHP100 & PI2-MS1000 |
样气杂质
| 样气 | 范围 | AR(ldl) | H2(ldl) | CO2(ldl) | NMHC(ldl) | N2 | CO(ldl) | CH4(ldl) |
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检测下限
注:噪音水平是基于使用氦保护气体的噪声峰值
| 组分 | 浓度 (ppb) | 峰高 (mV) | 噪音(mV) | LDL (3 倍噪音) (ppt) |
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